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第36章 纳米光刻机光源技术（第2页）

张伟忠这样说了，大家也不好说什么，只能硬着头皮继续加班。

办公室里，张伟忠打开电脑，看着米国制裁龙国的新闻，内心苦涩得说不出话。

打开围脖热点。

米国总统特没谱竟然在推特公开发文。

“没有米国的帮助，龙国永远造不出高端光刻机。

给他们图纸也造不出来。”

“华美公司无芯可用，手机业务陷入停滞。”

“国内陷入缺芯潮流，国产芯片的研发，该何去何从。”

看着一个个热点新闻，张伟忠狠狠往桌上拍了一巴掌，沉默不语。

米国佬简直欺人太甚，龙国迟早能够生产属于自己的高端芯片。

就在他准备关掉电脑的时候，突然，邮箱一闪一闪的的图标让他想起了之前孟伟业说的话，便顺手打开了邮箱。

是一个一份2GB大小的压缩包，在好奇心的驱使下，他将压缩包下载下来。

“0。5纳米EUV光刻机技术光源解决方案？”

张伟忠嘴角露出一丝不屑。

还0。5纳米？

可笑至极。

自己在半导体领域耕耘二十年，什么顶尖技术自己不知道？

0。5纳米，已经超出了摩尔定律的极限，根本不可能。

电子隧穿问题是怎么解决的？

估计又是什么民科，找他来鉴定。

压缩包已经解压完成，张伟忠用wps打开。

“卧槽，这么多，还有目录。”

“看起来挺复杂的。”

他直接翻到中间，结果发现根本看不懂，于是翻到第一页，重新开始慢慢看。

“嗯，有点意思。”

“哟，这个也知道？”

现在民科都这么牛了吗？

他继续往下看。

“呵呵，想法很不错，可是实现起来难呀！”

“嗯？不对，这个方法？”

张伟忠像是发现了亮点，这个方法，他竟然没有反驳的理由。

“我去，还可以这样？”

随着一行一行阅读下去，他脸上的神色，从一开始的不屑，到后来的惊讶，到最后的震惊。

这份文档，竟然是真的。

真的解决0。5nm制程的光刻机光源技术。

这到底是国内哪个顶尖芯片研究所的杰作。

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